Iskani niz je bil najden v IZTOČNICAH:
disjoint exposure class
Financial institutions and credit
bg
несвързан клас експозиции
cs
oddělená kategorie expozic
de
getrennte Risikopositionsklasse
el
διακριτή κατηγορία ανοιγμάτων
es
categoría de exposición disociada
et
eraldatud riskipositsiooni klass
fi
erotettu vastuuryhmä
fr
catégorie d'exposition disjointe
ga
aicme neamhchosanta scartha
hu
diszjunkt kitettségi osztály
it
classe di esposizione separata
lt
atskira pozicijų klasė
lv
atdalīta riska darījumu kategorija
mt
klassi ta’ skopertura diżassoċjata
nl
ontkoppelde blootstellingscategorie
pl
rozłączna kategoria ekspozycji
pt
classe separada de posições em risco
ro
clasă de expuneri disociată
sk
trieda oddelených expozícií
sl
ločena kategorija izpostavljenosti
sv
uppdelad exponeringsklass
domestic exposure
Financing and investment
Economic geography
bg
вътрешна експозиция
cs
vnitrostátní expozice
da
national eksponering
de
inländische Risikoposition
el
εγχώριο άνοιγμα
es
exposición nacional
et
riigisisene riskipositsioon
fi
kotimainen vastuu
fr
exposition nationale
ga
risíocht intíre
hu
belföldi kitettség
,
hazai kitettség
it
esposizione domestica
,
esposizione nazionale
lv
iekšzemes riska darījums
mt
skopertura domestika
nl
binnenlandse blootstelling
pl
ekspozycja krajowa
pt
posição em risco nacional
ro
expunere internă
sk
domáca expozícia
sl
domača izpostavljenost
double exposure
Information technology and data processing
da
dobbelt belysning
de
Doppelbelichtung
el
Διπλή εμφάνιση,πολλαπλή εμφάνιση
es
doble exposición
fi
kaksoisvalotus
fr
double exposition
it
doppia esposizione
nl
dubbele belichting
pt
dupla exposição
sv
dubbelexponering
double resist exposure
Electronics and electrical engineering
da
dobbelresist-eksponering
de
Doppeltbelichtung des Abdeckmittels
el
διπλή έκθεση φωτοευπαθούς υλικού
es
exposición en doble enmascarado
fi
estopinnoitteen kaksoisvalotus
fr
technique de double exposition
it
esposizione a doppio processo fotolitografico
nl
dubbele belichting van de afdeklaag
pt
exposição dupla
sv
dubbelexponering av fotoresist